碳化硼涂層的制備方法
碳化硼噴嘴涂層存在著晶體和非晶體兩種結(jié)構(gòu),非晶體涂層的硬度低于晶體涂層硬度｡制備碳化硼涂層的方法很多,主要有CVD､真空鍍膜､可調(diào)射頻磁濺射､LCVD､微波法､離子濺射等｡實(shí)際應(yīng)用中應(yīng)根據(jù)具體要求采用不同的方法制備碳化硼涂層,爭(zhēng)取獲得最大的效益｡
采用離子濺射制備B4C涂層時(shí),影響涂層性能最重要的因素是濺射距離｡濺射距離對(duì)涂層的成分和微觀結(jié)構(gòu)影響很大,B2O3含量隨著濺射距離的增大而增大,而涂層致密率隨著濺射距離的增大而降低,彈性模量下降｡濺射距離增加導(dǎo)致致密率下降有兩個(gè)原因:一是當(dāng)粒子處于熔融狀態(tài)時(shí),伴隨B2O3形成的氣體被圍在基體中形成氣孔.
碳化硼噴嘴與酸、堿溶液不起反應(yīng)，具有高化學(xué)位、中子吸收、耐磨 及半導(dǎo)體導(dǎo)電性。是對(duì)酸最穩(wěn)定的物質(zhì)之一，在所有濃或稀的酸或 堿水溶液中都穩(wěn)定。用硫酸、氫氟酸的混合酸處理后，在空氣中800 ℃煅燒21h，可完全分解并形成三氧化碳和三氧化二硼。當(dāng)有一些過渡金屬及其碳化物共存時(shí)，有特殊的穩(wěn)定性。但是,目前對(duì)碳化硼涂層的研究還不夠深入｡與對(duì)其它涂層的研究相比,國(guó)外只有少量論文對(duì)B4C作為硬涂層進(jìn)行了探討,而國(guó)內(nèi)相關(guān)的研究成果就更少｡本文在目前的研究基礎(chǔ)上,綜述了碳化硼涂層的有關(guān)研究成果,探討了碳化硼涂層研究的進(jìn)展和未來發(fā)展方向｡
